半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」生産能力増強 日本曹達2023年2月6日
日本曹達は、3D-NANDフラッシュメモリや車載用・産業用半導体の増加により需要が拡大していることから、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」について製造設備の生産能力を増強を決定。千葉工場（千葉県市原市）の生産能力を 現状の2倍に増強する。
VPポリマー製造プラント棟
「VPポリマー（ポリパラヒドロキシスチレン）」は、半導体用のフォトレジスト材料として使用されている。同社は独自に開発したリビングアニオン重合技術により、世界に先駆けて「VPポリマー」の商業化に成功。同重合技術を用いた製法で得られる製品は分子量の分散度が狭く高品質であることから、半導体の品質要求の高度化に応える製品として、フォトレジストメーカーから高い信頼を得ている。
通信技術などの進化に伴い3D-NANDフラッシュメモリの生産量が増加し、車載用・産業用半導体の需要も中期的に拡大傾向にあることから、フォトレジストメーカー各社はKrFフォトレジストの増産体制の構築を検討している。また、「VPポリマー」の供給体制の拡充が強く求められていることから、安定的な供給体制を確保するため、「VPポリマー」製造設備の生産能力を増強する。
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